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株式会社FLOSFIA

日本のベンチャー起業家の頂点「Japan Venture Awards 2019」経済産業大臣賞を(株)FLOSFIA人羅社長が受賞

2019年 2月 6日

「Japan Venture Awards」(主催:中小機構)とは

革新的かつ潜在成長力の高い事業や、社会的課題の解決に資する事業を行う、志の高いベンチャー企業の経営者を称える表彰制度です。 2000年以来、279名のベンチャー経営者等が受賞し、それぞれの事業とともに日本を支えるリーダーへと成長を遂げています。次なる日本のリーダーとして果敢に挑戦する起業家を、ロールモデルとして広く紹介することで、創業機運を高め、日本における創業の促進を図ります。

メディア掲載情報:日経新聞(31面)他

2019年 1月 11日

セラミックス部品を「成膜」で!

  • 日経新聞(31面)
  • 日刊工業新聞(10面)

「地域未来牽引企業」(経済産業省)に(株)FLOSFIAが選定されました

2018年 12月 25日

「地域未来牽引企業」とは

地域の特性を生かして高い付加価値を創出し、地域の事業者等に対する経済的波及効果を及ぼすことにより地域の経済成長を力強く牽引する事業を更に積極的に展開すること、または、今後取り組むことが期待される企業

出展情報:イノベーション・ジャパン2018

2018年 7月 30日

日程
2018年8月30日(木曜)~31日(金曜)
会場
東京ビッグサイト(東京国際展示場) 西展示棟・西1ホール
ブース番号
NEDOゾーン 材料・ナノテクノロジー NN-04
内容
α型酸化ガリウム 高品質自立基板の研究開発
高品質自立基板の開発により、更なる高耐圧・高品質・大電流化をターゲットへ
プレゼンテーション
2018年8月30日(木曜)12時40分~12時45分 NEDOプレゼンテーションステージ2

メディア掲載:京都新聞(19面)

2018年 7月 14日

「次世代半導体の動作実証を発表」

メディア掲載:日経新聞(7面)

2018年 6月 25日

「起業の都 再び スタートアップ #京都大学」に掲載

「J-Startup企業」に選ばれました(経済産業省)

2018年 6月 15日

入居企業である(株)FLOSFIAが「J-Startup企業」に選ばれました。

■「J-Startup」とは

J-Startupプログラムでは、有識者が推薦した成長スタートアップ企業を「J-Startup企業」として選定し、大企業やベンチャーキャピタル、アクセラレーターなどの「J-Startup Supporters」とともに、海外展開も含め官民一丸となって集中的にサポートします。また、関係省庁とも連携し、プログラムを推進します。 (経済産業省)

入居者紹介

2018年 2月 1日

会社概要

社名
株式会社FLOSFIA
代表者名
代表取締役社長 人羅 俊実
本社住所
〒615-8245 京都市西京区御陵大原1番36号
設立
平成23年3月31日
資本金
30,759万円
業種カテゴリ
半導体製造業
事業概要
ミストCVD成膜技術を用いた成膜装置、薄膜加工、アプリケーションの開発・販売
連携先
京都大学

会社紹介

FLOSFIA

平成23年に人羅俊実氏(現代表取締役)らが起業。「ミストCVD成膜技術」という京都大学の優れた技術シーズを産業応用に結びつけ、社会に貢献することを理念に掲げる。

ミストCVD法の装置と構成

酸化ガリウムという新しい半導体を用いたパワー素子の研究開発・製造・販売を行う「パワーデバイス事業」と各種酸化膜の受託成膜やコーティングサービス、ミストCVD装置販売などを行う「成膜ソリューション事業」の二つで事業を進める。

京大桂ベンチャープラザで行う事業

簡便・低コスト・低環境負荷・高品質な成膜技術「ミストCVD法」

気体のように扱える液体「ミスト」を使って、常圧で高品質な成膜を形成できる。

低コストで大面積、かつ被膜対象が平面基板以外の複雑な立体構造でもナノレベルでの適用が可能というメリットがある。

メディア掲載:日経産業新聞(4面)

2018年 1月 22日

酸化ガリウム製パワー半導体
実用化目指す

メディア掲載:日経新聞(17面)他

2018年 1月 5日

デンソーとパワー半導体共同研究開始

  • 日経新聞(17面)
  • 日経産業新聞(9面)
  • 日刊工業新聞(6面)
  • 京都新聞(9面)

メディア掲載:日経エレクトロ ニクス11月号

2017年 11月 1日

対談(人羅社長・京大金子助教) 

メディア掲載:日経エレクトロニクス 2017年10月号

2017年 10月 1日

ミストCVD法で
パワーデバイスや金属薄膜

メディア掲載:中小企業振興 (平成29年9月15日号)

2017年 9月 15日

大学発ベンチャー表彰NEDO理事長賞 

メディア掲載:日刊工業新聞(14面)

2017年 6月 7日

酸化ガリウムSBD開発 

メディア掲載:電子デバイス産業新聞(1面)

2017年 6月 1日

酸化ガリ半導体量産化へ 

メディア掲載:週刊ダイヤモンド 2017年5月20日号

2017年 5月 20日

三菱UFJ公募型ビジネスコンテスト
FLOSFIA 優秀賞 

メディア掲載:化学工業日報

2017年 4月 26日

非真空ドライめっき技術を開発 

メディア掲載:京都新聞(11面)他

2017年 4月 22日

三菱UFJ公募型ビジネスコンテスト
FLOSFIA 優秀賞
  • 京都新聞(11面)
  • 読売新聞(8面)

メディア掲載:日経産業新聞(7面)

2017年 3月 17日

JEITAベンチャー賞受賞 

メディア掲載:日刊工業新聞(24面)

2016年 9月 27日

最先端技術を活用し新事業を支援

  • 事例1:ミストCVD法の事業化
  • 事例2:個体水素源型燃料電池の開発
  • 事例3:CVD-SiCによる成膜技術の開発 

メディア掲載:化学工業日報

2016年 8月 16日

酸化ガリウムパワーデバイス実用化へ
技術的めど 

メディア掲載:日経新聞(35面)

2016年 3月 15日

加工技術 革新に挑む 

メディア掲載:日経産業新聞(8面)

2016年 2月 5日

ミストデポジション法で酸化ガリウム膜 

メディア掲載:日経新聞(11面)

2015年 10月 26日

半導体で電力損失最大9割減の技術開発 

メディア掲載:日経エレクトロ ニクス5月号

2015年 5月 1日

特集記事「大学発世界企業」として紹介 

メディア掲載:日経新聞(29面)

2015年 4月 2日

高知工科大総合研究所等と研究 

メディア掲載:日経産業新聞

2015年 1月 7日

会社紹介