入居者紹介(FLOSFIA株式会社)

会社概要

居室番号 【北館】 201・202・203・204号室 【南館】2213・2214号室
社名 株式会社FLOSFIA 代表者名 代表取締役社長 人羅 俊実
本社住所 〒615-8245 京都市西京区御陵大原1番36号
設立 平成23年3月31日 資本金 30,759万円
業種カテゴリ 半導体製造業
事業概要 ミストCVD成膜技術を用いた成膜装置、薄膜加工、アプリケーションの開発・販売
連携先 京都大学
ホームページ 株式会社FLOSFIAホームページ(新規ウィンドウで表示)

FLOSFIA

会社紹介

 平成23年に人羅俊実氏(現代表取締役)らが起業。「ミストCVD成膜技術」という京都大学の優れた技術シーズを産業応用に結びつけ、社会に貢献することを理念に掲げる。
 酸化ガリウムという新しい半導体を用いたパワー素子の研究開発・製造・販売を行う「パワーデバイス事業」と各種酸化膜の受託成膜やコーティングサービス、ミストCVD装置販売などを行う「成膜ソリューション事業」の二つで事業を進める。

ミストCVD法の装置と構成

京大桂ベンチャープラザで行う事業

 ″簡便・低コスト・低環境負荷・高品質な成膜技術「ミストCVD法」″

 気体のように扱える液体「ミスト」を使って、常圧で高品質な成膜を形成できる。
 低コストで大面積、かつ被膜対象が平面基板以外の複雑な立体構造でもナノレベルでの適用が可能というメリットがある。

FLOSFIAで成膜した直径4インチの酸化ガリウム膜

中小機構のインキュベーション事業

このページの先頭へ